中国商標局は同局のサイト上で、図形調査機能をリリースしたことを発表した。この調査システムは現在6か所の審査センターで、審査の効率化のため審査官によってのみ使用される。
残念ながら、この調査機能はまだ一般には公開されていないが、公開されるようになったら、IPニュースでもお伝えする予定である。